Skip navigation
BelSU DSpace logo

Пожалуйста, используйте этот идентификатор, чтобы цитировать или ссылаться на этот ресурс: http://dspace.bsu.edu.ru/handle/123456789/28230
Название: Temperature influence on the properties of thin Si₃N₄ films
Авторы: Zakhvalinskii, V. S.
Abakumov, P. V.
Piljuk, E. A.
Rodriguez, G. V.
Goncharov, I. Yu.
Taran, S. V.
Ключевые слова: physics
solid state physics
thin films
nanoscale films
properties
temperature influence
Raman spectroscopy
atomic force microscopy
small-angle X-ray scattering
Дата публикации: 2015
Библиографическое описание: Temperature influence on the properties of thin Si₃N₄ films / V.S. Zakhvalinskii [и др.] // Journal of Nano- and Electronic Physics. - 2015. - Vol.7, №4.-Art. 04052.
Краткий осмотр (реферат): Applying Raman spectroscopy, small-angle x-ray scattering, and atomic force microscopy it were studied phase composition and surface morphology of nanoscale films Si₃N₄ (obtained by RF magnetron sputtering)
URI (Унифицированный идентификатор ресурса): http://dspace.bsu.edu.ru/handle/123456789/28230
Располагается в коллекциях:Статьи из периодических изданий и сборников (на иностранных языках) = Articles from periodicals and collections (in foreign languages)

Файлы этого ресурса:
Файл Описание РазмерФормат 
Zakhvalinskii_Temperature.pdf242.92 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики


Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.